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英特尔大连芯片厂投产 采用65纳米亚洲最先进工艺

ZDNetnews 更新时间:2010-10-25 18:53:28来源:CNET科技资讯网

本文关键词: 英特尔 | 英特尔大连芯片厂 |

CNET科技资讯网 10月25日 大连报道(文/梁钦):英特尔在中国的首个晶圆制造设施(英特尔大连芯片厂,Fab68)明日将在大连宣布投产。英特尔方面透露,新工厂将采用65纳米制造工艺技术生产芯片组,支持从笔记本电脑、高性能台式机及基于英特尔至强处理器的服务器等产品。

2007年3月,英特尔宣布投资25亿美元在大连建立一个生产300毫米的晶圆厂。当时由于受到美国高科技投资有关政策的限制,(必须落后于美国本土两代工艺,当时英特尔的工艺为45纳米,中间横跨65纳米和90纳米),英特尔方面承诺大连芯片厂将采用90纳米工艺。

但是由于英特尔的Tick-Tock(钟摆)模式的演进,英特尔今年已经进入32纳米生产工艺,而大连芯片厂在此时投产也就“顺理成章”地将采用65纳米制造工艺。

英特尔大连芯片厂投产 采用65纳米亚洲最先进工艺
图为英特尔大连芯片厂外景

据悉,英特尔大连芯片厂是英特尔自1992年在爱尔兰建立F10晶圆厂后,新建的第一座晶圆厂,也是英特尔在亚洲的第一个晶圆制造工厂。

此前CNET科技资讯网曾报道,英特尔宣布大连芯片厂将以65纳米制造工艺代替90纳米制造工艺。这也是目前英特尔在中国可以采用的最先进的制造工艺。

2007年9月,英特尔大连芯片厂奠基开建。这是英特尔在全球的第八个,亚洲第一个300毫米晶圆厂。据悉,英特尔大连芯片厂总投资达到25亿美元,总使用面积达到16.3万平方米,内含1.5万平方米的无尘室。

2009年6月,英特尔宣布大连芯片厂将以65纳米制造工艺代替90纳米制造工艺。这也是目前英特尔在中国可以采用的最先进的制造工艺。

在2009年,英特尔大连芯片厂建设取得了重大进展:2009年全面按计划完成建设任务。全年完成15.8万平方米的厂房和基础配套建设工程;综合办公楼落成启用;生产设备开始安装调试;员工规模达到了1000人。

2010年3月份,CNET科技资讯网记者到大连芯片厂现场参观,相比1年多前的只有一块奠基石的荒地,如今已经是高楼林立,热闹非凡。当时,英特尔大连芯片厂已经有1200多人员工进驻,在工厂内,除了生产线已经逐步安装到位外,医院、健身房等各种设施一应俱全。

英特尔大连芯片厂相关人士告诉CNET科技资讯网,“英特尔是除了美国之外功能最全的机构,而大连芯片厂是亚洲最先进的芯片制造厂。”

当时,英特尔大连芯片厂总经理柯必杰告诉CNET科技资讯网,英特尔大连芯片厂的准备工作有条不紊,生产设备已陆续安装调试到位,而200多人的外籍专家团队和在美国培训的中国员工也已经回归大连,确保十月份工厂投产。

今年是英特尔进入中国的25周年,在10月份正式投产的英特尔大连芯片厂将是一份最好的贺礼。

英特尔近日表示,计划在未来几年投资60亿美元改造工厂以服务于下一代22纳米芯片技术,并在俄勒冈州建立新研究设施、及扩招最多达1000名员工。

    

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